光刻机只是芯片制造的一道重要流程而已，不是芯片制造的全部。
足足2ooo多道的工序，才是芯片制造的最核心技术。
这要求代工厂必须具有极强的系统整合与精密协调生产配套能力，那数千道工序的摸索过程，绝对比核心技术研还难。
更不要因为芯片代工厂中的“代工”二字而小瞧芯片代工行业，如果没有芯片代工厂，那些光刻机生产厂、刻蚀机厂、离子注入机厂……等等核心设备供应商，没一个能把芯片制造出来。
芯片代工厂的芯片制造工艺，也是最重要最核心的技术。
此外，芯片制造领域，包括光刻机在内的核心设备，外国几年前就解除了对z国的禁运，除了供货顺序有些靠后，z国的芯片企业，只要有钱，都可以买到最先进的光刻设备。
国外没有对z国实施禁运的原因，一方面是z国国内的几家研究机构，攻克了光刻机领域的多项关键技术，一旦实施封锁，用不了几年z国企业就能取得突破，搬起石头砸自己的脚；另一方面有了先进的光刻机，不代表掌握了一流的芯片制造技术。
比如当前国际上众芯片巨头使用的光刻机，大多还是荷兰阿斯麦尔公司生产的193nm浸润式光刻机，现有的65nm、45nm、32nm、28nm、16/14nm芯片，全是用193nm浸润式光刻机做出来的（至于波长这么大的光刻机，为什么能做出制程更小的芯片？这就是先进加工工艺所挥出的威力了）。
而1onm、7nm乃至更小制程的芯片，则必须用到13nm的极紫外光刻机（euv），才能确保芯片有稳定的性能以及较高的良率……这种光刻机国外也没有对z国禁售，忠芯国际两年前就订购了一台euv，花了1.2亿刀！去年到的货，用于更先进制程芯片的研究，只是到现在都没取得实质性的突破。
现在有了星海科技虚拟工厂的研加成，等14nm芯片的良率与生产效率提升上去后，再转朝1onm、7nm乃至更小的5nm进军，张卫京等人预计，一定能在较短时间内，取得重大突破！
“张总、梁兄，我们为什么不越过1onm，直接去做7nm？有虚拟工厂这样的器在手，虽然一开始困难重重，但我们有无穷多的试错机会，我们的试错成本极低！越过一代，直接做7nm，达到跟苔积电、三鑫比肩的最先进水平，一旦完成突破，我们必然震动整个业界！”
杨明忽然开了个脑洞，冒出一个异想天开的想法。
众人眼睛一亮。
“我觉得……可以尝试！”
“1onm芯片我们其实已经摸索的差不多了，良品率惨不忍睹，但至少做出几片合格能用的芯片了，把这些作为技术储备，直接进军7nm，应该不会碰到太多弯路的。”
“确实可大胆一试，来一次跳跃式的展！如果我们的7nm芯片研制成功，不仅业界震惊，股东信心一定大涨，股价一定暴涨！”
张卫京兴奋的脸色通红。
哪怕尝试失败也没关系，顶多耽误点时间、浪费点研成本而已，跟潜在的巨大收益相比，值得冒险一搏！
虚拟工厂这款“研器”之强，给张卫京等人注入的信心之大，由此可想而知。
